【第28回】 2030年の社会・テクノロジー研究会(オンライン開催)
日 時:2021年9月21日(火)20:00~21:30
テーマ:ハイテク産業において先行優位性を維持する方法に関する考察察
報告者:浅見哲也さん (元Imaging Device Technologies代表取締役社長)
概 要:
1980年代、日本半導体企業はメモリ事業の微細加工技術と量産技術により大きく成長した。
その後、製造技術の優位性を活かしシステムLSI事業へと展開したが、台湾等の製造専門会社の参入により日本企業のシェアは漸減した。
この間に事業構造は垂直統合型から水平分業型へと変化、台湾T社を中心とした新しいエコシステムが形成された。
一方、CMOSイメージセンサは垂直統合型企業が技術優位性を以て事業を牽引しており、その優位性は10年を超えて維持されている。
この様な背景において、システムLSI事業競争力低下の要因、CMOSイメージセンサの長期持続性の要因。および、その背後にあるメカニズムについて考察した。
本講演は半導体製品に関する研究結果であるが、固有知財を用いたハイテク産業における共通の課題であると考えている。
日本のハイテク産業の競争力を維持するために、バイオ、AI等、他分野からの御意見も賜りたく、よろしくお願い申し上げます。
参加を希望する方は、9月18日(土)までに下記URLの申込フォームに①氏名、②所属、③メールアドレスを明記の上、お申し込みください。
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https://forms.gle/TcdgVe7qZ41Kw2hHA
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申込フォームに登録されたメールアドレスあてに9月19日(日)にZOOMの案内を出す予定です。
なお、参加無料です。